绿色厂务国际创新论坛
日期: | 2025年3月28日 周五 |
时间: | 09:30-12:35 |
地点: | 上海浦东嘉里大酒店, 上海厅 3 |
现场提供中英文同声传译 |
半导体生产工艺通常具有高能耗、高水耗、高频率产生和排放有毒有害污染物的特征。其主要包括洁净室系统、机械系统、特殊气体和大宗气体、水系统系统、工艺排气系统、真空系统、电力供应及自动化、建筑结构、环境健康安全以及厂务节能。本次论坛为全球半导体公司提供一个交流心得、探索解决策略的平台。望通过此论坛的举办加强半导体产业链上下游协同发展,应对半导体生产过程中产生的环境污染问题(废水、废气、废固),以实现半导体公司的绿色可持续运营,进而共同推动行业的绿色转型升级。
Agenda / 议程 | |
09:00-09:30 | Registration 会议登记注册 |
09:30-09:35
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Opening Remarks/开幕致辞 Lung Chu, President, SEMI China; Vice President, SEMI 居龙,SEMI全球副总裁、中国区总裁 |
09:35-09:40
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Welcome Remarks/欢迎致辞 Ron R.T.Horng 洪荣聪 Vice President/Chief Environment Office,Foxconn Technology Group 富士康(鸿海)科技集团,环保长/副总经理 |
09:40-10:05 | 武汉长飞先进半导体有限公司(拟邀请) |
10:05-10:30 | 深圳市亿天净化技术有限公司 |
10:30-10:55 | 信息产业电子第十一设计研究院科技工程股份有限公司 (拟邀请) |
10:55-11:20 | 美的楼宇科技 |
11:20-11:45 | 上海野村水処理工程有限公司 |
11:45-12:10 | 艾思洁净科技(江苏)有限公司 |
12:10-12:35 | 施耐德电气(中国)有限公司 |
* 议程以最终版为准 * Please refer to the final version of Agenda. |
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